广州市黄埔区申请流片补贴扶持、芯片架构、EDA及IP研发补贴扶持政策兑现申报时间、条件要求、奖励标准

　　根据《广州开发区 广州市黄埔区促进集成电路产业发展办法》(穗埔工信规字〔2023〕6号)、《广州开发区 广州市黄埔区促进集成电路产业发展办法实施细则》(穗埔工信规字〔2024〕4号)、《申请流片补贴扶持(促进集成电路产业发展办法)办事指南》、《申请芯片架构、EDA及IP研发补贴(促进集成电路产业发展办法)办事指南》等文件规定，黄埔区现组织开展《办法》中流片补贴扶持、芯片架构、EDA及IP研发补贴扶持事项兑现的申报工作。有关事项通知如下：
 

　　一、申报时间

　　2026年1月13日至2026年1月26日17:00。
 

　　二、申报事项

　　1.流片补贴扶持，受理事项范围：2024年1月1日至2024年12月31日期间流片(发票和银行付款凭证时间均需在此期限内)且符合《申请流片补贴扶持(促进集成电路产业发展办法)办事指南》要求的。

　　2.芯片架构、EDA及IP研发补贴，受理事项范围：2024年1月1日至2024年12月31日期间开展研发且符合《申请芯片架构、EDA及IP研发补贴(促进集成电路产业发展办法)办事指南》要求的。
 

　　三、流片补贴扶持

　　(一)申请条件

　　在广州开发区、广州市黄埔区及其受托管理和下辖园区范围内，依法诚信从事生产经营活动，实行独立核算，符合国家统计规范、税收征管、信用管理等规定的集成电路企业，且同时符合以下条件：

　　1.须以集成电路设计为主营业务：一是具有核心关键技术和自主知识产权，并以此为基础开展经营活动;二是集成电路设计销售(营业)收入占企业收入总额的比例不低于60%且自主设计销售(营业)收入占企业收入总额的比例不低于50%;三是具有与集成电路设计相适应的生产经营场所、软硬件设施等开发环境(如EDA工具、合法的开发工具等)，以及与所提供服务相关的技术支撑环境。

　　2.申报的芯片产品已获得集成电路布图设计登记证书或已授权的发明专利(企业须为第一专利权人)。

　　3.流片费用包括掩模版制作、流片加工费，不含税，且必须是用于项目的合理费用，以有资质的会计师事务所提供的项目专项审计报告为准。发票和银行付款凭证时间均需在相应补贴期限内。

　　(二)资助标准

　　对企业研发多项目晶圆(MPW)直接费用、购买光罩(MASK)直接费用和工程片、试流片加工费用的40%给予补贴(相关费用按照不含税计算)，每家企业每年最高补贴500万元。

　　注：

　　1.申请本条扶持的流片费用投入须为企业自有资金投入部分，不包含企业获得的各级财政扶持资金等。

　　2.本指南扶持比例和限额均为上限数额，具体政策扶持兑现视当年度财政预算情况相应调整。

　　3.申请流片补贴所需的晶圆(wafer)数量应该合理，同一型号芯片流片累计数量最大不超过25片(单次流片数量超过25片的视为量产，不予补贴)。

　　4.同一企业按“从高不重复”的原则申请流片补贴或研发费用补贴，两项补贴不可同时享受。已享受“一事一议”、“一企一策”扶持的不得重复享受本扶持条款。

　　四、芯片架构、EDA及IP研发补贴

　　(一)申请条件

　　1.在广州开发区、广州市黄埔区及其受托管理和下辖园区范围内，依法诚信从事生产经营活动，实行独立核算，符合国家统计规范、税收征管、信用管理等规定的集成电路企业。

　　2.申请扶持的企业或机构主营业务须为集成电路ARM、X86及RISC-V芯片架构、EDA及IP开发设计，掌握自主知识产权，并形成收入，其从事ARM、X86及RISC-V芯片架构、EDA及IP研发设计业务所取得的收入，占企业业务收入总额的比例不低于70%。

　　3.加计扣除后的研发费用是指企业从事ARM、X86及RISC-V芯片架构、EDA及IP研发活动，并按照《财政部 国家税务总局 科技部关于完善研究开发费用税前加计扣除政策的通知》(财税〔2015〕119号)、《国家税务总局关于研发费用税前加计扣除归集范围有关问题的公告》(国家税务总局公告2017年第40号)、《财政部 税务总局 科技部关于企业委托境外研究开发费用税前加计扣除有关政策问题的通知》(财税〔2018〕64号)等文件规定归集的研究开发费用。国家有关文件有调整的，从其规定。

　　4.企业研发费用(不含税)扶持采取事后补助方式，企业应在年度企业所得税汇算清缴中完成研发费用税前加计扣除申报。

　　(二)资助标准

　　对企业专业从事ARM、X86及RISC-V芯片架构、EDA及IP开发设计的，对加计扣除后的研发费用按30%的比例给予扶持，每家企业每年累计最高补贴500万元。

　　注：1.加计扣除后的研发费用即经税务部门认可的可加计扣除研发费用，企业在年度企业所得税汇算清缴中完成研发费用税前加计扣除申报。

　　2.申请本条扶持的研发费用投入需为企业自有资金投入部分，不包含企业获得的各级财政扶持资金等。

　　3.同一企业按“从高不重复”的原则申请流片补贴或研发费用补贴，两项补贴不可同时享受。已享受“一事一议”、“一企一策”扶持的不得重复享受本扶持条款。

　　4.本指南扶持比例和限额均为上限数额，具体政策扶持兑现视当年度财政预算情况相应调整。
 

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